近日,中科院上海光機所高功率
激光元件技術(shù)與工程部和上海理工大學(xué)合作,在
光學(xué)薄膜的超低吸收研制工藝研究中取得新進(jìn)展,制備得到了吸收損耗僅為1.4 ppm的高反射多層膜,相關(guān)研究成果以“Effect of ionic oxygen concentration on properties of SiO2 and Ta2O5monolayers deposited by ion beam sputtering”為題,發(fā)表于Optical Materials。
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