1. 摘要
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vm^k 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦
仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。
VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)
鏡頭進(jìn)行
光線(xiàn)追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦
光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用
相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
B ,3 t` Mv|vRx^b 
82lr4 q1
