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1.光刻產(chǎn)品：微透鏡，刻槽，光學碼盤，分劃板，光柵，光刻掩模等，還可根據(jù)客戶需要制作各類特殊微細結構。最大加工范圍320*320m。                                                                                      2.設計：微功能器件設計。包括微機械（MEMS）設計、光學/微光學器件設計、掩模設計。                              ,u<aKae  
3.圖像信息技術：圖像/高速圖像數(shù)據(jù)采集、處理與儲存模塊及系統(tǒng)。 |Ok1
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