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    [技術(shù)]錐形相位掩模的Talbot像 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-09-21
    摘要 m]yt6b4  
     Fg3VD(D^U  
    在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 AHq;6cG  
    Hnv{sND[  
     :>U2yI  
    JfmNI~%  
    建模任務(wù) 5 } 9}4e  
    @_tQ:U,v  
     (o/HLmr@Y  
    結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) ~RV>V*l  
     =v4;t'_^  
    某一位置的Talbot圖樣 EK^B=)q6:W  
    lF]cUp#<  
     <MhjvHg  
       /P~@__XN  
    某一位置的Talbot圖樣  =#N;ZG  
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    不同位置的Talbot圖樣 6N}>@Y5  
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    不同位置的Talbot圖樣 "HRoS#|\  
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