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    [技術(shù)]光學(xué)相干層析成像的工作原理 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-09-07
    掃描干涉測(cè)量是一種表面高度測(cè)量技術(shù)。通過(guò)利用白色光源的低相干性，只有當(dāng)路徑長(zhǎng)度差落在相干性長(zhǎng)度內(nèi)時(shí)才出現(xiàn)干涉圖案。因此，它能夠?qū)崿F(xiàn)非常精確的測(cè)量，這一特性在光學(xué)相干斷層掃描（OCT）的醫(yī)學(xué)成像中得到了利用，OCT正是利用了這一物理原理。VirtualLab Fusion在單個(gè)平臺(tái)上的各種可交互建模技術(shù)有助于對(duì)相干現(xiàn)象進(jìn)行高效建模。在這個(gè)例子中，構(gòu)造了一個(gè)帶有氙燈的邁克爾遜干涉儀，并用于測(cè)量具有平滑調(diào)制表面的樣品。