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    [技術(shù)]JCMSuite應(yīng)用—衰減相移掩模 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-08-10
    在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示： VVf~ULZ-  
    c8yD-U/-  
     |{_%YM($  
    -x RsYYw  
    掩模的基板被具有兩個(gè)開(kāi)口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開(kāi)口的下方，位于相移區(qū)域。 F-ZD6l9O  
     q|