上海光機(jī)所在碳化硅表面飛秒激光改性提升拋光效率研究方面取得進(jìn)展
近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所精密光學(xué)制造與檢測中心實(shí)驗(yàn)室在碳化硅表面飛秒激光改性提升拋光效率研究方面取得進(jìn)展。研究發(fā)現(xiàn)通過飛秒激光對預(yù)涂有Si粉的RB-SiC表面進(jìn)行改性,能夠獲得結(jié)合強(qiáng)度為55.46N的表面改性層。且改性后的RB-SiC的表面僅經(jīng)過4.5小時的拋光,即可得到表面粗糙度Sq為4.45nm的光學(xué)表面,與直接研磨拋光相比,拋光效率提高了3倍以上。該研究成果拓展了RB-SiC的表面改性方法,并且激光的可控性和該方法的簡單性,使得它可以用于復(fù)雜輪廓的RB-SiC表面改性處理。相關(guān)成果發(fā)表在Applied Surface Science(《應(yīng)用表面科學(xué)》)上。 |