近期，中國科學院上海光學精密機械研究所精密光學制造與檢測中心在數(shù)字化子孔徑拋光中中頻誤差的研究方面取得重要進展，研究首次證明工具與光學元件間接觸壓強分布是影響中頻誤差不可忽視的重要因素，并提出旋轉(zhuǎn)卷積模型（RPC）實現(xiàn)了受該因素影響下中頻誤差定量解耦；研究成果進一步深化了對子孔徑拋光中頻誤差產(chǎn)生機制的理解，也為中頻誤差的進一步抑制提供了新的研究思路，相關研究成果發(fā)表于Optics Express。 _a[)hu8q.  
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