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即將模擬一個具有隨機粗糙表面的正弦光柵。此模擬是通過使用VirtualLab中的一般二維光柵(General Grating 2D)元件堆棧中的可編程光學(xué)界面來完成的。 "9@,l! ^agj4$ 關(guān)鍵詞:光柵,光柵工具箱,粗糙表面,可編程光學(xué)界面,光柵元件 "cMNdR1^,y 5`~mqqR5 要求工具箱:光柵工具箱 <F7V=Er D`VFf\7 相關(guān)應(yīng)用案例:案例090.01,案例246.01 xc;DdK=1X d+6]u_J 一、模擬任務(wù): R\5Vq$Q 二、光柵的描述 rjUBLY1( p0M=t- 1. 原始表面輪廓是一個平滑的正弦曲線輪廓,其周期為5μm,調(diào)制深度為468nm(使得最內(nèi)側(cè)三個級次的效率相同)。 6NX3"i0eT \D?:J3H*] 2. 該正弦曲線輪廓疊加入一個隨機的變化,由VirtualLabTM中的可編程光學(xué)界面來模擬。 +TN^NE %/T7Z;d 3. 用于模擬粗糙度的該代碼片段有兩個物理參數(shù):最小特征尺寸(Smallest Feature Size)和總高度調(diào)制(Total Height Modulation)。使用種子(Seed)變量可以確定任意數(shù)目的生成器以獲得一個可再生的結(jié)果。 =i>\2J%'R :)IV!_>'d 4. 變量“最小特征尺寸(Smallest Feature Size)” -U-P}6^ MzzKJ;wbC6 下面將展示所得高度輪廓以及所得效率的圖,其“總的高度調(diào)制(Total Height Modulation)”為50 nm,“最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為不同的值。 rbyY8
bX /r^[a,Q#x 1) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為0 :.uk$jx aMTFW_w `T"rG}c LjaGyj>) 2) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為100nm *Qkc[XHqy _BS
9GB m`6VKp{YD 3) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為500nm -(#-I$z :#u}.G .Evy_o\^ 4) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為1000nm 5~+XZA#2 p|qyTeg 7I}P*%(f 5) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為1500nm n ~,tQV |P~;C6sf
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