首先聲明一下，在這里表達的只是個人看法，并不一定有道理。 A{# Nwd>  
關(guān)于鍍膜，大家都追求的是鍍膜的連續(xù)性和穩(wěn)定性。 DAfyK?
+UL  
甚至為了穩(wěn)定性，一些鍍膜機廠家寧可犧牲性能。 bLzs?eos  
比如說鍍膜過程中使用APC充氧： h.)h@$d  
很多人認為APC充氧只是為了給類似于TiO2這些易失氧膜料進行補氧。 v2Bzx/F:  
其實不然。使用離子源的情況下，氧其實是足夠的。 ]hA,LY f  
APC充氧還有一個重要的目的，維持鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性。 V A<5uk04K  
APC是自動壓力控制的英文縮寫，它能起到穩(wěn)定真空腔體真空度的作用。 pY@Y?Jj  
F]UQuOR)  
在真空中，有個平均自由程的概念，一個粒子平均運動多遠才能和其他粒子碰撞。 3iRA$C-p  
真空度越高，平均自由程越長，電子槍和離子源發(fā)出來原子或者離子就會更多的到達基板表面。 As~(7?]r  
但是隨著腔體的逐漸變臟，鍍膜時候的真空度會變差，到達基板的原子和離子就會變少。 xl(@C*.sC1  
一般會表現(xiàn)為外圈和內(nèi)圈的分布變化，還有折射率的變化。 =pcF:D#+  
為了讓分布和折射率穩(wěn)定，在鍍膜過程中使用APC是個解決的辦法。 G O{.9_2  
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APC充氧口（也有充氮，充其他氣體的）的位置也很重要。 
~. YWV  
如果是補氧和維持真空度兼而有之的，一般充氧口放在底板的中心位置。 5;\gJf  
如果有其他特殊原因（比如說工藝和外觀的要求），會有在傘圈下方100mm處放置一個充氧環(huán)， [U>@,
BH  
均勻開孔以便于均勻充氧。

補充幾個和真空相關(guān)的因素： >5hhd38  
1，真空計污染：皮拉尼真空計容易受污染， lx |5?P  
所以清掃機臺的時候最好拆掉。清掃完再裝上。 MP^ d}FL  
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2，擴散泵返油：使用劣質(zhì)回收油，或者擴散泵口冷卻板冷卻不好的時候， |l0Ea  
擴散泵容易返油，返油也會造成脫膜，膜質(zhì)不好，分布問題。

我都關(guān)掉鍍膜,因為NBPF蒸鍍機開了鍍膜DWDM鍍不出來 KS}hU~
 
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