成膜后破壞鍍膜表層，用擦拭液擦拭膜層延展性比較大

這個(gè)Ti3O5成膜溫度一般不能太低吧，建議150℃以上，低溫成膜牢固度與吸收均不夠理想，如果想低溫成膜，高折射率材料用Ta2O5可能更好一些 ]?a i  

主要SIO2打底層，掉膜也是掉到了基板

離子源&充氧&電子槍速率方面看下

建議測(cè)一下溫度

基片是否干凈，擴(kuò)散泵是否返油，第一層速率及離子源參數(shù) V;29ieE!
 

1，注意一下清洗，必要手擦幾片做比較。 o2~P vef  
2，鍍膜前用離子源清洗，用質(zhì)量大的Ar，多打一陣子。 `3yK<-  
3，基板如果是玻璃就加到150度以上， dVe,;?+A  
如果是塑膠，用鹵素?zé)艏訜幔ú灰�用加熱絲） $Da?)Hz'F  
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其他的上面的都講過(guò)了，其實(shí)工藝參數(shù)很重要。 <.".,Na(J0  
如果是塑膠片，加熱很重要

請(qǐng)教一下為什么加熱不能用加熱絲，光馳機(jī)里好像沒(méi)有鹵素?zé)?

jimmy_:請(qǐng)教一下為什么加熱不能用加熱絲，光馳機(jī)里好像沒(méi)有鹵素?zé)?span style="color:gray "> (2024-02-19 17:21)  UWidT+'Sa  

LT"H-fTgs  
因?yàn)樗苣z片導(dǎo)熱不行。 GC:q6}  
加熱絲最初加熱的是片子背面，熱量靠傳導(dǎo)再到鍍膜面， 'qvj[lpGr  
一個(gè)是升溫慢，一個(gè)是均勻性差。 -Caj>K  
而鹵素?zé)粽丈涞氖清兡っ�，升溫�?huì)比較快，而且溫度的均勻度也好。 K{{_qFj@<y  
加熱快的，吸收的水氣出來(lái)的也多