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在半導體產業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結構的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個例子,模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應和光與微結構的互作用,并演示了圖像的形成。 x$*OglaS ho. a93 Nt?B(.G 建模任務 o^_am>h ty
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