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干涉測(cè)量是用于精確測(cè)量中最廣泛應(yīng)用的技術(shù)之一。通過(guò)觀察和研究條紋圖案，可以判斷表面形狀質(zhì)量或關(guān)于光譜帶寬的儀表信息。利用VirtualLab Fusion中非序列場(chǎng)追跡技術(shù)，可以輕松地設(shè)置和分析光學(xué)干涉儀。在這里提出兩個(gè)經(jīng)典的基于邁克爾遜干涉儀的例子：一個(gè)高質(zhì)量相干激光光源，另一個(gè)寬帶白光光源。 2j&-3W$^  
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基于激光的邁克爾遜干涉儀 -fIX6  
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