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干涉測量是一種光學計量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個典型的例程，在非序列場追跡的幫助下，我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。 E*lx
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建模任務(wù) QsW/X0YBv  
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元件傾斜引起的干涉條紋 ]_$[8#kg  
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