在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個
圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在
VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。
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Ney/[3 A j'A_'g'^ 建模任務(wù) vQ;Ex Pi]19boM. 
:]\([Q+a 結(jié)構(gòu)和
材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
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u^[ 某一位置的Talbot圖樣 3j\1S1
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r>o63Q: `$ 6rz 某一位置的Talbot圖樣 tfj:@Z5&$C
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