在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)
圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過(guò)傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱(chēng)為RCWA)在
VirtualLab Fusion中對(duì)具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測(cè)得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。
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建模任務(wù) HhB'
^) sq}uq![?M iZ2nBiQ 結(jié)構(gòu)和
材料參數(shù)來(lái)自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
#lx(F3 - !s=`9o 某一位置的Talbot圖樣 _z&H O
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*6]_ 6xO /Au7X'} 某一位置的Talbot圖樣 DbH'Qs?z
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hbTJXP~~? g42Z*+P6N VirtualLab Fusion的工作流程 hE}y/A[ z]=jer 構(gòu)建
光柵結(jié)構(gòu) oJVpJA0IA 6g%~~hX o\:vxj+%* to;cF6X 通過(guò)參數(shù)運(yùn)行計(jì)算不同位置的強(qiáng)度
3Cl&1K #5 5Q@4@b{C ^h"F\vIpV U7d05y' )r:gDd#/X VirtualLab Fusion技術(shù) /7yd&6`I
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