8W9kd"=U 在本示例中，
模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案
成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示：
['Hl$ 2 j m6bAvy]3<t 
eE '\h ^/U-(4O05* 掩模的基板被具有兩個開口的吸收
材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位于相移區(qū)域。
XnV*MWv K]1A,Q 由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)，在xy平面中有一個2D仿真域。在源
文件中設(shè)置3DTo2D = yes標簽，以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉(zhuǎn)換。啟用此標記后，就可以描述傳入?yún)^(qū)域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項目。由于
光線從基板下方進入，光線的傳輸方向為+Z方向。
iG!tRNQ{y qn5e[Vn 相位分布如下圖所示：
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