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用于增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng)，其設(shè)計(jì)過程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此，對(duì)光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡(jiǎn)單的概述非常有幫助：足跡分析。借助足跡和光柵分析工具，VirtualLab提供了一個(gè)強(qiáng)大的工具，可在此過程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中，討論了這個(gè)多功能工具的選項(xiàng)和功能。 Z1$S(p=)L  
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足跡和光柵分析工具 ,ZYPffu<*  
 足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個(gè)特色。 V~8]ag4  
 它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進(jìn)行初始化。 lt'N{LFvc  
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操作工具的基本流程 vytO8m%U  
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步驟1：選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計(jì)工具生成，詳見： );S8`V  
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光導(dǎo)布局設(shè)計(jì)工具 1JOoICjB  
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但是請(qǐng)注意，足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個(gè)文件。 WK0IagYw  
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步驟2：定義該工具應(yīng)該考慮的視場(chǎng)范圍。 #<V5sgqS  
    步驟3：?jiǎn)螕舴治霭粹o。關(guān)于分析進(jìn)度的詳細(xì)信息將在按鈕下方的面板中提供。 4UPxV"H  
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理想和實(shí)際光柵結(jié)果 McbbEs=)  
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足跡和光柵分析工具的結(jié)果可以分為兩個(gè)方面： D)[(  
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相互作用的足跡數(shù)據(jù) ts,V+cEA  
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相互作用的足跡數(shù)據(jù)文檔提供了一個(gè)所有光束足跡打到一個(gè)給定的光柵區(qū)域的彩色編碼插圖，配置視場(chǎng)(FOV)的不同模式有不同的顏色。用戶可以選擇在圖中顯示的視場(chǎng)模式。 0hXx31JN N  
    注意 iJKGzHvS  
 如果 VirtualLab Fusion記錄了部分入射光束，則取決于基本光路中的“通道分辨率精度”設(shè)置。 {=,I>w]T|W  
 無論這個(gè)區(qū)域的光有多小或如何調(diào)制，該顯示都不會(huì)區(qū)分，并且將始終描繪完整的、相同大小的足跡圓。 rzvKvGd#N  
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中央視場(chǎng)的數(shù)據(jù) nYBa+>3BDf  
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AW!A+?F6  
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傾斜視場(chǎng)模式數(shù)據(jù) Ef@Et(f_mQ  
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