* LWihal  
為了控制用于 AR/MR 應(yīng)用的光導(dǎo)設(shè)備的均勻性和效率，有必要在某些區(qū)域，例如 在擴展和輸出耦合光柵區(qū)域，引入變化的光柵參數(shù)，例如填充因子或光柵高度值。  cz>)6#&O  
        為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個區(qū)域內(nèi)引入平滑變化的光柵參數(shù)，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。 這還包括一個工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數(shù)提供的衍射效率。 這個例子解釋了如何應(yīng)用這些工具。 FeQo,a

  
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2. 建模任務(wù)的說明 0Js5 ' 9}H  
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在光導(dǎo)上引入連續(xù)調(diào)制的光柵參數(shù)（例如，填充因子）。 6c/0OM#  
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3. 帶有附加引導(dǎo)的常規(guī)工作流程 C=U4z|Ym  
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起點是一個現(xiàn)有的、可執(zhí)行的光導(dǎo)系統(tǒng)，它具有基本的幾何配置（所需的距離和定位的光柵區(qū)域）和光柵規(guī)格（方向、周期、階數(shù)）。 "&^KnWk=  
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需要參數(shù)調(diào)制的區(qū)域必須使用真實的光柵結(jié)構(gòu)進行配置。 >9#) obw  
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足跡和光柵分析工具用于指定光柵參數(shù)變化的所需范圍，在光柵相互作用的指定條件下嚴格計算相應(yīng)的瑞利系數(shù)，并生成可以定義實際參數(shù)變化的光學設(shè)置 . @Gw]cm  
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注意：光柵調(diào)制是為單個光柵區(qū)域定義的。 yfR0vp<&  
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4. 打開足跡和光柵分析工具并設(shè)置光學裝置 {TMng&
 
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