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    [原創(chuàng)]zemax光學設計公差分析 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-06-27
    光學鏡片加工過程中不可避免會帶有一些面型的誤差——實際的和設計值總有一點區(qū)別。如何分析這些面型不規(guī)則度誤差對光學性能帶來的影響,我們來整理一些不同的情況。注意,本文只涉及面型不規(guī)則度公差,而不涉及其他的偏心旋轉定心等公差因素。 ?Orxmxc 2  
    ll C#1  
    首先我們把面型不規(guī)則都分為空間頻率的中低頻和高頻,對于高頻面型誤差,不規(guī)則的尺度明顯小于波長(往往是表面劃傷帶來的),這種情況下實在沒有什么太好的方式來精細地模擬光線行為。原則上這種尺度下幾何光學已經不適用,而物理光學的計算量不可接受。我們可以把高頻面型誤差帶來的行為統(tǒng)一用表面散射來表征,或者有時候直接認為光線丟失。至于用哪種散射模型,散射程度如何,則可以通過實測來搞定。 62Z#Y Q}x  
    )Q .>rX,F  
    為了規(guī)范說明什么是中低頻或者高頻面型不規(guī)則度,我們得引入一個重要的概念PSD(Power Spectral Density,功率譜密度),它本質上是把面型數據進行傅里葉變換,并繪制出頻域譜,有點像成像光學里的MTF,PSD是對面型上不同頻率“強度分布”的描述。 [<6S%s  
    {HCz p,Y  
    回到中低頻表面不規(guī)則度,這往往是由拋光工藝造成的,也是絕大多數應用場景下需要著重考慮的。我們先來看看知名光學設計軟件Zemax是怎么處理的。 S;)w.  
    <"_d]?,  
    對于標準面(Standard),Zemax可以用TIRR公差操作數來增加表面不規(guī)則度。 } q$ WvY/  
    (JM5`XwM  
    為了幫助理解后臺原理,此處非常推薦的一個Zemax操作是,設定好上面這個面型公差后,運行蒙特卡洛公差分析,并且把蒙特卡洛文件保存下來。 *m#Za<_Gv  
    Y 1t\iU  
    我們打開保存下來的蒙特卡洛文件,可以看到原來的Standard面變成了Irregular面,而這個Irregular面型上是可以指定一些球差和像散的。軟件用人為增加球差和像散來表征表面不規(guī)則度。 N|6M P e  
    >M`CVUf  
    顯然這種做法有很大的局限性。只針對球面增加非常低頻的,不夠隨機的誤差,這是不夠的。 *" {lMZ +  
    +1D+]*t_?[  
    應用更廣泛的是TEXI和TEZI操作數,它們都可以產生真正隨機的表面不規(guī)則度,而且可以應用在非球面上。這兩個操作數很像,我們可以重復上述保存蒙特卡洛文件的做法來觀察TEXI和TEZI是如何起效的。前者把非球面變成Zernike Fringe Sag,后者變成Zernike Standard Sag。另外TEZI對Toroidal面型也適用。很重要的一個區(qū)別點在于,在公差數據編輯器里前者指定的是面型不規(guī)則度PV值,而后者是RMS值。由于Zemax官方更推薦TEZI,我們這里的說明僅針對TEZI。 #H :7@  
    !Ze5)g%H  
    這種方式造成的面型不規(guī)則度有足夠的隨機性,還能通過控制Zernike系數的最高最低階來控制不規(guī)則度空間頻率。顯然,階數越高,空間頻率越大。 fP. 6HF_p_  
    (Kv#m 3~  
    這里借著TEZI,我們對于業(yè)界常見的一種公差表達形式ISO10110 A(B/C)來進行一下說明。A(B/C)是一種生產上比較常見的對旋轉對稱(Rotational Symmetrical Irregularity, RSI)面型公差的表征方式。先來做一下名詞解釋: K|Di1)7=/  
    sPR1?:0:  
    - A:由于曲率半徑公差導致的“光圈”(干涉條紋, Fringe)數目。這個很普通 sn)3Z A  
    {o>j6RS\  
    - B:面型不規(guī)則度PV值。可以用和TEZI類似的隨機Zernike項來表征,但是需要保證符合PV要求。自行指定用到的Zernike最高、最低階數,一般建議可以到37階,即ρ^8階 Zd')57{  
    0`[wpZ  
    - C:旋轉對稱的(RSI)面型不規(guī)則度PV值。這部分可以用Zernike項里僅含常數、ρ^4、ρ^6、ρ^8、ρ^10等的項目來表征,同時也要保證符合PV要求。在Zernike項中RSI項,自行指定最高、最低階數,一般建議可以到ρ^10階 zlEX+=3  
    #':fkIYe'  
    復雜的地方來了,B和C是耦合在一起的PV_C是PV_B的一部分。如果要用軟件分析A(B/C)公差的話,得對隨機選取PV_C的值,不超過PV_B,并且隨機給選定的Zernike的RSI項隨機賦值,對整體的PV縮放到PV_C。下一步給所有選取的Zernike項隨機賦值,并對整體PV縮放到PV_B – PV_C的值。 nuw70*ell  
    pNKhc#-w  
    這個流程任何商業(yè)光學軟件都不會有自帶的工具,建議通過Zemax強大的API接口自行開發(fā)。 }3OKC2K~  
    f>N!wgo[  
    對于RSI的公差,有一種比較特殊的應用場景也值得單獨說一說,即單點金剛石車削后留下的環(huán)狀表面條紋。這種公差基本上是一些同心圓,且空間頻率不變,維持在一個中頻。在模擬上,我們可以在已有的面型上增加一個以cos函數變化的矢高波動。這個面型在新版Zemax里面已經自帶有了。 3