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    [技術(shù)]高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-06-09
    高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 \IKr+wlN8  
    s6B@:9  
    4tI~d8?pk+  
     [C$ 0HW  
    2. 建模任務(wù) ,P}c92;  
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     uT1x\Rt|e  
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    3. 概述 5j]%@]M$Z  
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    fOVRtSls  
     示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 utr_fFu  
     下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 Z(L>~+%  
    {)mlXo(On  
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    F<$&G'% H  
    4. 光線追跡仿真 V+^\SiM  
    b}fH$.V@  
    '&9b*u";x(  
     首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 !>Xx</iD1  
     點(diǎn)擊“Go!”。 yC[}gHv  
     隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 S'txY\  
    $Ix^Rm9c  
    gisZmu0  
    <*[(t;i  
     然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 J8jbtL O'  
     點(diǎn)擊“Go!”。 5J,vH  
     隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 n3(HA  
    2h=RNU|  
     L,i-T:Z~=  
    5. 場(chǎng)追跡仿真 Fq8Z:;C8  
    {?8rvAj Y  
    B-RaAiE@  
     轉(zhuǎn)換到場(chǎng)追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 =6Z 1yw7s  
     點(diǎn)擊“Go!”。 ;.iy{&$  
    W+QI D/  
     zIu1oF4[