|
|
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 wvY$ s;
6A<aelE*i
 $ :/1U$
7EUaf;d^ 2. 建模任務(wù) {fs(+
0ei
Dc5XU3Eu`
 u)ItML lU3w IB 3. 概述 ektFk"W3A\
?e*vvu33!
` !BUd
示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 XCY4[2*a>
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 !+U.)u9 '
+=v|kd
 ?/D#ql7 2* N# %ZUX 4. 光線追跡仿真 ]b) (=-;> 7O j9~3o4 oUH\SW8?
首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 ?*HlAVDcFT
點(diǎn)擊“Go!”。 TM 9>r :j'
隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 #v1 4"s
|
