Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從入門(mén)到精通	Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從基礎(chǔ)到實(shí)踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來(lái)的成像革命

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[技術(shù)]馬赫-澤德干涉儀 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2022-06-02

摘要

干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。它被廣泛用于例如，表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。作為一個(gè)典型示例，在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡，構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。

建模任務(wù)

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[技術(shù)]馬赫-澤德干涉儀 [復(fù)制鏈接]


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