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Zemax光學(xué)設(shè)計從入門到精通	Zemax光學(xué)設(shè)計從基礎(chǔ)到實踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計與光學(xué)元件	計算光學(xué)帶來的成像革命

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[技術(shù)]通過高NA浸沒顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2022-04-25

在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設(shè)計過程中通常不能被很好地考慮。在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。