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在本示例中,模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示: V%ii3 XEH}4;C'{ '-PC7"o Snw3`|Y~< 掩模的基板被具有兩個(gè)開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開口的下方,位于相移區(qū)域。 #2p#VQh `}gbc69 由于這個(gè)例子是所謂的一維掩模(線/空間模式),在xy平面中有一個(gè)2D仿真域。在源文件中設(shè)置3DTo2D = yes標(biāo)簽,以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動(dòng)轉(zhuǎn)換。啟用此標(biāo)記后,就可以描述傳入?yún)^(qū)域,就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項(xiàng)目。由于光線從基板下方進(jìn)入,光線的傳輸方向?yàn)?Z方向。 4`v!Z#e/aX F`+\>ae$h 相位分布如下圖所示: t'qL[r%? Qst$S}
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