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主辦單位：廣東省真空學(xué)會(huì)/訊技光電科技（上海）有限公司 ORJIo
  
協(xié)辦單位：常熟黌論教育咨詢(xún)有限公司（微信公眾號(hào)：honglun-seminary） ?FpWvyz|  
授課時(shí)間：2022 年 5 月 27 日（五）-29 日（日）共 3 天 AM 9:00-PM 16:00 9\mLW"  
授課地點(diǎn)：廣州（詳細(xì)地址將于開(kāi)課前 2 周郵件告知或自行在黌論教育網(wǎng)校查閱） OX?\<),  
課程費(fèi)用：4800 元（包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐費(fèi)用） MS 81sN\d  
授課專(zhuān)家：訊技光電高級(jí)顧問(wèn)&高級(jí)工程師 _C*fs<#  
Enn"hdI  
課程簡(jiǎn)介 pUQ/03dp  
當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用所需的基板，鍍膜 eoG$.M"  
材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開(kāi)始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如高反射鏡不管波寬大小，開(kāi)始我 BMG3|N^  
們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱(chēng)膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng) #Oc] @  
初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿(mǎn)足要求時(shí)，我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來(lái)參與合成或優(yōu)化，設(shè) iW%I|

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計(jì)好之后，即刻進(jìn)行制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度 DpvI[r//'*  
做不到，則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直達(dá)合格為止。 yy i#Mo ,  
透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉，而且容易成型為非球面透鏡，被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中，如眼睛鏡片、 Q/(K$6]j  
相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板，如 OLED，近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致 v50bdj9}k  
使其具有吸水性，從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、 26I_YL,S  
需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射，還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從 2db3I:;E  
這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。 *U,@q4  
IYS)7`{]  
課程大綱 V)~.~2$  
1. Essential Macleod 軟件介紹 ( u\._Gwsx  
1.1 介紹軟件 #FCnA  
1.2 運(yùn)行程序 '$ =>  
1.3 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì) 4~Vx3gEV:  
1.4 繪圖和制表來(lái)表示性能 t\k$};qJ  
1.5 3D 繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 >,$_| C  
1.6 創(chuàng)建一個(gè)默認(rèn)設(shè)計(jì) _/-jX  
1.7 文件位置 6;\I))"[  
1.8 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) ZojIR\F^  
=S+wCN  
1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 93("oBd[s(  
1.10 厚度（物理厚度，光學(xué)厚度[FWOT,QWOT]，幾何厚度） \IV1j)I"u  
1.11 單位定義 hKLCJ#
T  
1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 `1$@|FgyC  
1.13 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） DEG[Z7Ju  
1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) pN:Kdi  
1.15 交互式繪圖 (|:M&Cna]  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) ~J wb`g.  
2.1 介質(zhì)和波 t{^*6XOcJ  
2.2 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 Ai=se2  
2.3 傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 f_jo+z{-ik  
2.4 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 XHK<AO^  
2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 O`x;,6Vr  
3. 理論技術(shù) V@e?#iz  
3.1 參考波長(zhǎng)與 g
8<S~Z:JK  
3.2 四分之一規(guī)則 .h@rLorm>  
3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 r3&G)g=u  
3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 Vd,jlt.t  
3.5 對(duì)稱(chēng)周期
GK)?YM  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì) ZRh~`yy  
4.1 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 qT{U(  
4.2 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)中的一些實(shí)際問(wèn)題 F\JM\{&F  
4.3 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技巧 `w#Oih!6A|  
4.4 特殊光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)方法 d6}r#\  
4.5 Macleod 軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能 X$ 0?j1  
4.5.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 Pk{_(ybaY  
4.5.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準(zhǔn)牛頓法，針形優(yōu)化， a oD`=I*<  
差分演化法） A!s`[2 Z  
4.5.3 膜層鎖定和鏈接 n7B7