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[求助]PC硬化基材上鍍ITO膜，100度高溫環(huán)測ITO膜裂 [復制鏈接]

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離線fanrongwei11

工程師

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2021-11-25

PC基底硬化后進行加霍爾離子源輔助熱鍍（100°C-200°C）ITO膜，氧分壓在2.2-2Pa，鍍完也都有冷卻1小時以上，但鍍完100℃烘烤一小時后ITO膜均出現(xiàn)了開裂，也試過了不加溫和不加離子源輔助，但鍍產品的光電性能太差了，方阻太大透過太小，100℃烘烤后倒是不膜裂了，請教下各位大神，如何進行工藝改善？