中科院成功合成新型碳基二維半導(dǎo)體材料 彌補(bǔ)石墨烯缺憾
在今年8月召開的“全球IEEE(電氣和電子工程師協(xié)會)國際芯片導(dǎo)線技術(shù)會議”上,IMEC(歐洲微電子研究中心)提出了四種延續(xù)摩爾定律、打破2nm芯片物理極限的方法。這幾種方法無一不是建立在了使用“石墨烯材料”的基礎(chǔ)之上。經(jīng)過討論,專家組最終達(dá)成一致,將石墨烯定位下一代新型半導(dǎo)體材料,將碳基芯片定義為下一個芯片時代的主流。 以石墨烯為代表的碳基二維材料自發(fā)現(xiàn)以來受到了廣泛關(guān)注。然而,石墨烯的零帶隙半導(dǎo)體性質(zhì)嚴(yán)重限制了其在微電子器件領(lǐng)域的應(yīng)用。 針對該情況,中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究人員等自2013年開展新型碳基二維半導(dǎo)體材料的制備研究,2014年1月成功制備了由碳和氮原子構(gòu)成的類石墨烯蜂窩狀無孔有序結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體C3N單層材料,并發(fā)現(xiàn)該材料在電子注入后產(chǎn)生的鐵磁長程序。 |