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摘要 T]^F%D% MP}H
5 VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且,幾個高級規(guī)格選項(xiàng)可用,例如,添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項(xiàng),并且討論了其對光柵結(jié)構(gòu)的影響。 =V5.c+ :VN<,1s9p^
`zzX2R Je ~;eWQwD 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) dt`L}Yi B10p7+NBF
izFu&syv) ,dVCbAS@ 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 +ypG<VBx% 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 $#RD3#=?u w|L~+
斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 #eUfwd6.Y yQi|^X~?$ ?>%u[g 22BJOh
斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 =\XAD+ 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 U~H'c
p 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過折射率定義。 I.8|kscM 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 "L8V!M_e Q|ik\
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