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摘要 bwH[rT!n &*%x]fQ@ 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 "r* `*1 F"UI=7:o  sRA2O/yKCE h<TZJCt 建模任務(wù) &lLfV a-l 0%dOi
ko  tH44\~ 概觀 kS8?N`2}LV o~)o/(>ox  zX4 RqI 光線追跡仿真 e6Y>Bk
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