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ASML未來四代EUV光刻機(jī)進(jìn)度披露：正向1nm邁進(jìn)

發(fā)布：cyqdesign 2021-03-18 15:56 閱讀：913
日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機(jī)分別是NXE：3400B和3400C，它們的數(shù)值孔徑（NA）均為0.33，日期更近的3400C目前的可用性已經(jīng)達(dá)到90%左右。 1