有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計的和實際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計進行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個合適的設(shè)計，所以多個解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個正確答案，多個解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點沒有完全嚴格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。 #:\+7mCF > A'!T'"~ 我們可以看一個在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計和錯誤設(shè)計的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。 z5*O@_r+.b
o2e h)rtB n%ArA])_& 圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
= cI\OsV&? 我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認是從設(shè)計中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個階段工具的外觀。 8JFkeU%yO k}0 圖2.反演工程工具的對話框，其中應(yīng)輸入無錯誤設(shè)計的路徑。 wgR@M[]o;
K[|P6J 圖3.反演工程中的第二個和第三個對話框，我們在其中輸入基板細節(jié)，然后輸入測量的性能。性能可以是反射率、透射率或橢圓參數(shù)。
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g-V\ s&} 圖4.輸入性能后，顯示屏將顯示測量的性能以及從正確設(shè)計中計算得出的性能。有各種可用的命令，可以減少目標(biāo)點的數(shù)量、阻止某些目標(biāo)區(qū)域等
x]J-q5 可用兩種優(yōu)化技術(shù)：Simplex和Differential Evolution。和通常一樣，單純形速度更快，但更容易受到局部極小值的影響。通常我們先試試Simplex。每個技術(shù)都有一些相關(guān)的參數(shù)，然后對工具可以接受的變化量有限制。所有這些都是為了指導(dǎo)這個過程找到正確的解決方案。這些基本約束可以在控制參數(shù)對話框（圖5）中進行調(diào)整，可以通過Adjust菜單進行訪問。 8^"|-~#< 3 6Z`.E>~L 圖5.控制參數(shù)對話框，可以在其中設(shè)置許多控制過程的參數(shù)。所示的選項卡允許設(shè)置一些控制層參數(shù)優(yōu)化的參數(shù)。Optimizer選項卡允許在Simplex和Differential Evolution之間進行選擇。 eNC 5' Z
q}A3"$-F 圖6.Agjust菜單是我們使用參數(shù)對話框啟動和控制流程的地方。選項卡顯示我們可以改變的參數(shù)。Material選項卡允許所選材質(zhì)的所有層的變化。變化率可以是一個常數(shù)，可以顯示，也可以在整個設(shè)計過程中線性或四次變化，這是在Order列中定義的。這基本上是工具因子的影響。
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