光學(xué)薄膜可以采用物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和化學(xué)液相沉積(CLD)三種技術(shù)來制備。 #`CA8!j!!  
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1.物理氣相沉積(PVD) ,':fu  
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PVD需要使用真空鍍膜機，制造成本高，但膜層厚度可以精確控制，膜層強度好，目前已被廣泛采用.在PVD法中，根據(jù)膜料氣化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù).其中，光學(xué)薄膜主要采用熱蒸發(fā)及離子輔助鍍技術(shù)制造，濺射及離子鍍技術(shù)用于光學(xué)薄膜制造的工藝是近幾年才開始的。
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