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4寸、6寸低應(yīng)力介質(zhì)膜代工服務(wù)上線（LPCVD） LPCVD--Low PressureChemical Vapor Deposition低壓力化學(xué)氣相沉積，是化學(xué)氣相沉積中的一種，LPCVD擁有很均勻的階梯覆蓋性、很好的組成成分和結(jié)構(gòu)的控制、高的output（通常一次可以生長50pcs甚至更多），另外LPCVD不需要載氣，因此大大降低了顆粒的污染； |
4寸、6寸低應(yīng)力介質(zhì)膜代工服務(wù)上線（LPCVD）LPCVD--Low PressureChemical Vapor Deposition低壓力化學(xué)氣相沉積，是化學(xué)氣相沉積中的一種，LPCVD擁有很均勻的階梯覆蓋性、很好的組成成分和結(jié)構(gòu)的控制、高的output（通常一次可以生長50pcs甚至更多），另外LPCVD不需要載氣，因此大大降低了顆粒的污染； |