如何分析部分
干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)系統(tǒng)）
/Pk:4, F}D3,&9N 在光刻應(yīng)用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
?eV_ACpZ8 在這里給大家分享一個(gè)案例， 希望可以幫到大家。
/g@^H/DO :m K xa Q.A \U>AgV 這里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ 0Gsu L+.H z&*@ 這里是案例的ZEMAX
文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請(qǐng)諒解！
)t%h[0{{ @r<b:?u 如果不能打開文件， 請(qǐng)告知我， 我轉(zhuǎn)發(fā)給你。
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"WlRG :3^ dF}> 回帖是對(duì)我分享的一個(gè)鼓勵(lì)， 謝謝回帖！
