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[原創(chuàng)]如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)成像系統(tǒng)） [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-06-28

如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)系統(tǒng)）

在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
在這里給大家分享一個案例，希望可以幫到大家。


這里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/

這里是案例的ZEMAX 文件：備注：我用的ZEMAX 是20年版本，如果您版本過低，可能無法正常打開，請諒解！

如果不能打開文件，請告知我，我轉(zhuǎn)發(fā)給你。

回帖是對我分享的一個鼓勵，謝謝回帖！

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