泛林和ASML研發(fā)EUV新技術(shù)：可減少90%光刻膠用量

發(fā)布：cyqdesign 2020-02-29 22:03 閱讀：8934

近日，美國(guó)泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV 光刻技術(shù)，不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ，大幅降低了成本。

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