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《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》

發(fā)布:飛躍小河 2020-02-27 14:54 閱讀:4570
新書搶先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》 a4RFn\4?  
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作者:美國Angus Macleod 、Christopher Clark   ]?`p_G3O  
譯:訊技科技股份有限公司 PZJ 4: h  
校:訊技科技股份有限公司 .b oizW1+  
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書籍概況 XSjelA?  
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Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 1T,PC?vr{  
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Angus Macleod先生60多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實用性強。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實際鍍膜提出實用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 ><R.z( 4%  
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻,有興趣者可依此深入研究,為精準起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 ](:FW '-  
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書籍目錄 >o#wP  
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1 引言 ,GU/l)os`  
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) otD?J= B  
2.1  一般規(guī)則 yWi0 tE{  
2.2  正入射規(guī)則 lY*]&8/=  
2.3  斜入射規(guī)則 ]\,uF8gg)  
2.4  精確計算 T}Vpy`  
2.5  相干性 ZCFf@2&z8  
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 A=d$ir K[  
4  Essential Macleod的特點 kseJm+Hc  
4.1  容量和局限性 "IS^a jaq  
4.2  程序在哪? 6oh@$.ThG  
4.3  數(shù)據(jù)文件 Y*cJ4hQ  
4.4  設(shè)計規(guī)則 M03i4R@h(  
4.5  材料數(shù)據(jù)庫和目錄庫 I''R\B p  
4.5.1  材料數(shù)據(jù)庫及導(dǎo)入材料 / &D$kxz  
4.5.2  材料目錄庫 hdJwNmEA>  
4.5.3  導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) bH&)rn  
4.6  常用單位 q,+kPhHEgy  
4.7  插值 xTFrrmxOf  
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 ~uR6z//%  
4.9 一般文檔編輯規(guī)則 (2bZ]  
4.10 設(shè)計文檔 6y,P4O*q  
4.10.1  公式 !FO^:V<|5  
4.10.2  更多關(guān)于膜層厚度 apD=>O  
4.10.3  沉積密度 J7wQ=! g  
4.10.4  性能計算 @ PoFxv  
4.10.5  保存設(shè)計和性能 G