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掃描電子顯微鏡SEM ^nG1/}  
北軟檢測芯片分析 pI'8>_o  
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掃描電子顯微鏡SEM分析原理：用電子技術(shù)檢測高能電子束與樣品作用時產(chǎn)生二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線等并放大成象 L+v8E/W  
譜圖的表示方法：背散射象、二次電子象、吸收電流象、元素的線分布和面分布等 NvXj6U*%  
提供的信息：斷口形貌、表面顯微結(jié)構(gòu)、薄膜內(nèi)部的顯微結(jié)構(gòu)、微區(qū)元素分析與定量元素分析等 9m<wcZ  
掃描電子顯微鏡SEM應(yīng)用范圍： Z)C:]}Ex  
      1、材料表面形貌分析，微區(qū)形貌觀察 nL 1IS  
      2、各種材料形狀、大小、表面、斷面、粒徑分布分析 <1ztj
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      3、各種薄膜樣品表面形貌觀察、薄膜粗糙度及膜厚分析 pP?<[ql[w  
SEM測試項目 I@8+k&nXS  
      1、材料表面形貌分析，微區(qū)形貌觀察 dL1~]Z y  
      2、各種材料形狀、大小、表面、斷面、粒徑分布分析 P58\+9d_  
      3、各種薄膜樣品表面形貌觀察、薄膜粗糙度及膜厚分析 9nP*N`  
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掃描電子顯微鏡樣品制備比透射電鏡樣品制備簡單，不需要包埋和切片。 v