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【官方培訓(xùn)】2019年 Zemax成像與激光培訓(xùn)_08月上海站

發(fā)布：zemax官方 2019-07-05 13:28 閱讀：14443
Zemax成像設(shè)計培訓(xùn)課程 & 激光、光纖耦合高級培訓(xùn)課程     8npjQ;%4>  
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Zemax中國將于 2019 年 8 月在上海舉辦官方培訓(xùn)課程，現(xiàn)已正式啟動報名，歡迎廣大新老客戶報名參加！   CV7%ud]E  
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主辦：Zemax China       /V f L(  
時間：成像設(shè)計：2019年08月12~14日     |     激光、光纖耦合：2019年08月15~16日       @j+X>TD  
地點：上海 0]MI*s>&  
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課程安排： A^@,Ha  
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成像設(shè)計 T[]kun  
本課程為3 天的 OpticStudio 成像設(shè)計課程，課程主要覆蓋序列成像設(shè)計、優(yōu)化技巧、像質(zhì)評價、熱分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 圖譜、玻璃材料定義、坐標(biāo)變換等，及相應(yīng)的實例鏡頭、棱鏡建模等。 )`-vN^1S-  
上課時間第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 軟件功能介紹；   I oFtfb[  
材料庫、鏡頭庫介紹；    :IX_}|  
如何定義新材料；   H <ugc  
如何使用鏡頭庫；		MTF；   VDC"tSQ  
雙高斯鏡頭設(shè)計及優(yōu)化；   | sZu1K  
像質(zhì)評價與圖像模擬；		分析工具應(yīng)用；   HQtUNtZ  
尋找最佳非球面；   YV"LM6`  
曲率套樣板；   %LBT:Aw  
鏡頭匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理論介紹；   V SUz+W  
Zemax 像差分析圖譜；		坐標(biāo)變換；   l527>7 eT  
坐標(biāo)斷點面的使用技巧；   =%R|@lz_x  
序列模式棱鏡建模；   Ll'!aar,  
掃描反射鏡設(shè)計實例；		Zemax公差分析功能；   (]*!`(_b  
加工誤差、裝配誤差；   MD=VR(P?eq  
靈敏度分析；   l$eKV(CZ4  
反靈敏度分析；   31n|ScXv  
蒙特卡羅分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00優(yōu)化；   v9+1[Y";  
局部優(yōu)化；   V'XvwO@  
全局優(yōu)化；   d&5GkD.P