對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)來(lái)說(shuō)，制程工藝可謂是關(guān)鍵中的關(guān)鍵。對(duì)芯片來(lái)說(shuō)，密度更大、更先進(jìn)的制程工藝有助于提升發(fā)熱控制，換言之甚至能做到提升性能但功耗卻減少。目前字面上最先進(jìn)的制程工藝是臺(tái)積電和三星的7納米工藝，但這還不是終點(diǎn)。 t@oK~ Nr  
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日前，臺(tái)積電宣布，7納米EUV（極紫外光刻技術(shù)）工藝正式達(dá)到量產(chǎn)要求，目前的良率已經(jīng)達(dá)到了和7納米技術(shù)初代相當(dāng)?shù)乃疁?zhǔn)，年內(nèi)還將不斷優(yōu)化。臺(tái)積電預(yù)計(jì)，今年會(huì)有100萬(wàn)塊300毫米晶圓被生產(chǎn)出來(lái)，對(duì)比去年猛增150%。 .lG5=Th!
 
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EUV技術(shù)不是什么神奇“BUFF”，而是另一種光刻方式。未來(lái)想要繼續(xù)往前推進(jìn)制程工藝升級(jí)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難堪大任，EUV技術(shù)成為了唯一的出路。 yqOuX>m