用默認(rèn)評價(jià)函數(shù)優(yōu)化時(shí)，我先用spot diagram優(yōu)化，等像質(zhì)較好時(shí)，換成wavefront優(yōu)化，MTF曲線能提升很快，像質(zhì)什么的都比較好，但是鏡片的結(jié)構(gòu)會變得很奇怪，邊界條件我限的很嚴(yán)了，就是控制不住，請問大家有遇到類似問題嗎？spot 切換成wavefront 進(jìn)行優(yōu)化時(shí)要注意什么呢？評價(jià)函數(shù)里要改寫什么才不致跑偏？（邊界條件我限的很嚴(yán)了）

我平常做的時(shí)候直接用spot diagram，幾乎不把兩個(gè)連在一起用

邊界限制條件的那個(gè)權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。

hit2011:我平常做的時(shí)候直接用spot diagram，幾乎不把兩個(gè)連在一起用 (2018-12-26 00:47)  X-tc Ud  

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只用spot 優(yōu)化的話，MTF曲線能達(dá)到要求嗎？感覺用wavefront 優(yōu)化的話，MTF能提升很快

ljj722:邊界限制條件的那個(gè)權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。 (2018-12-26 08:26)  .hYrE5\-  

6g/ <FM  
給了很重了。是不是因?yàn)槲业慕Y(jié)構(gòu)不穩(wěn)定，然后換成wavefront優(yōu)化就容易跑偏？在spot 優(yōu)化下達(dá)到什么程度再換wavefront呢？有資料說等OPD小于幾個(gè)波長，可是我的已經(jīng)小于幾個(gè)波長了

彌散斑優(yōu)化和波前優(yōu)化的區(qū)別我個(gè)人覺得有以下兩點(diǎn)： L*