摘要 Q}lCQK/g  
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高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 U~7udUR  
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圖片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任務(wù) Fovah4q%V  
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圖片:1-1Q210141Z3L0.png

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概觀 h>GbJ/^  
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圖片:1-1Q21014202H61.png

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光線追跡仿真 Y3:HQ0w`|  
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•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 _p0Yhju?  
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