摘要：深紫外光刻是目前集成電路制造的主流方法，為實現(xiàn)更小的元件特征尺寸，必須采用浸沒式投影物鏡以提高光學系統(tǒng)的分辨率，由此向其中的薄膜光學元件提出了眾多苛刻的要求。本文的討論由此展開：介紹了適用于浸沒式光刻系統(tǒng)的薄膜材料及膜系設計，以及高NA光學系統(tǒng)所需的大角度保偏膜系；物鏡中最關鍵的元件為浸液元件，對浸液薄膜的液體環(huán)境適應性及疏水、防污染等關鍵問題進行了討論；激光輻照壽命是衡量浸沒式光刻系統(tǒng)性能的重要因素，對鍍膜元件的激光輻照性能，尤其是浸液環(huán)境下的元件輻照壽命進行了分析。 K( MZ!>{
關鍵詞 ： 浸沒式光刻, 光學薄膜, 膜系設計, 環(huán)境適應性, 激光輻照壽命
