第 三 章   約 定 和 定 義 Dn;p4T@  
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介紹 Y 62r  
這一章對本手冊的習(xí)慣用法和術(shù)語進行說明。ZEMAX使用的大部分習(xí)慣用法和術(shù)語與光學(xué)行業(yè)都是一致的，但是還是有一些重要的不同點。 <d7xt*4  
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活動結(jié)構(gòu) NGTe4Crx  
活動結(jié)構(gòu)是指當(dāng)前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結(jié)構(gòu)。詳見“多重結(jié)構(gòu)”這一章。 AtHS@p  
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角放大率 =uV,bG5V1  
像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比，角度的測量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準。 i/qTFQst _  
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切跡 ~"dhu]^  
切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認情況下，入瞳處是照明均勻的。然而，有時入瞳需要不均勻的照明。為此，ZEMAX支持入瞳切跡，也就是入瞳振幅的變化。 %xlpB75N4N  
有三種類型的切跡：均勻分布，高斯型分布和切線分布。對每一種分布（均勻分布除外），切跡因素取決于入瞳處的振幅變化率。在“系統(tǒng)菜單”這一章中有關(guān)于切跡類型和因子的討論。 v5$s#f<   
ZEMAX也支持用戶定義切跡類型。這可以用于任意表面。表面的切跡不同于入瞳切跡，因為表面不需要放置在入瞳處。對于表面切跡的更多信息，請參看“表面類型”這一章的“用戶定義表面”這節(jié)。 5K.+CO<  
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后焦距 =>LZm+P  
ZEMAX對后焦距的定義是沿著Z軸的方向從最后一個玻璃面計算到與無限遠物體共軛的近軸像面的距離。如果沒有玻璃面，后焦距就是從第一面到無限遠物體共軛的近軸像面的距離。 5 2Hqu>  
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基面 AV4~U:vU  
基面（又稱叫基點）指一些特殊的共軛位置，這些位置對應(yīng)的物像平面具有特定的放大率。基面包括主面，對應(yīng)的物像面垂軸放大率為＋1；負主面，垂軸放大率為－1；節(jié)平面，對應(yīng)于角放大率為+1；負節(jié)平面，角放大率為－1；焦平面，象空間焦平面放大率為0，物空間焦平面放大率為無窮大。 :pZ}
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除焦平面外，所有的基面都對應(yīng)一對共軛面。比如，像空間主面與物空間主面相共軛，等等。如果透鏡系統(tǒng)物空間和像空間介質(zhì)的折射率相同，那么節(jié)面與主面重合。 rla:<6tt  
ZEMAX列出了從象平面到不同象方位置的距離，同時也列出了從第一面到不同物方平面的距離。 |E^|X!+9  
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