這是一個(gè)實(shí)驗(yàn) 不錯(cuò)的實(shí)驗(yàn) 5nL,sFd  
實(shí)驗(yàn)35 真空鍍膜 YGb&mD  
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真空鍍膜技術(shù)，在現(xiàn)代工業(yè)和科技中有廣泛的應(yīng)用，例如光學(xué)儀器上的各種反射膜、增透膜和濾光片、電子器件中的薄膜電阻、大規(guī)模集成電路、硬質(zhì)保護(hù)膜、磁性薄膜等。通過(guò)本實(shí)驗(yàn)可掌握真空鍍膜的實(shí)驗(yàn)原理和方法。 /(-X[[V  
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[實(shí)驗(yàn)?zāi)康腯 NYbeIfL  
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1、熟悉真空的獲得與測(cè)量方法。 (~t/8!7N  
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2、掌握高真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝技術(shù)。 ki`7S  
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[實(shí)驗(yàn)原理] %G!BbXlz  
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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。 Wx&gI4~  
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真空蒸發(fā)鍍膜最常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。 NIn#