摘要 6B8!}6Ojc j;`pAN(' 在
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測
系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微
結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的
物鏡,工作在紫外
波長范圍。作為一個(gè)例子,
模擬了一個(gè)完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。
|~5cNm Ga5s9wC @ ;!IPiU 建模任務(wù) r2SZC`Z}-M fx|d"VF[ yzK<yvN 結(jié)果 }B'-*)^|e{ dE"_gwtX O5r8Ghf) 結(jié)果 '!^7 *@z
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