摘要 (B@X[
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^7.XGWQ)-  
VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且，幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng)，并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。 2d-{Q8Pi  
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介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) yf!,4SUkU  
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 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 Ejv%,q/T(  
 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。 ]fZ<`w8u}  
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斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 >-M ]:=L  
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 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 BWh}^3?l  
 首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 um7o