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  • 中國科大在片上光學(xué)模擬領(lǐng)域獲得重要進(jìn)展

    作者:佚名 來源:中國科大 時間:2024-12-10 11:43 閱讀:284 [投稿]
    中國科大郭光燦院士團(tuán)隊李傳鋒、唐建順等人在基于薄膜鈮酸鋰光芯片的頻率合成維度研究中,提出將模擬的格點(diǎn)限制在一個腔模內(nèi)的新方法并進(jìn)行了實驗驗證,極大地降低了片上頻率合成維度的頻率要求。

    近日,中國科大郭光燦院士團(tuán)隊李傳鋒、唐建順等人在基于薄膜鈮酸鋰光芯片的頻率合成維度研究中,提出將模擬的格點(diǎn)限制在一個腔模內(nèi)的新方法并進(jìn)行了實驗驗證,極大地降低了片上頻率合成維度的頻率要求。該成果12月5日發(fā)表在國際知名期刊《物理評論快報》上。

    以光為載體的頻率合成維度是近年來興起的一種模擬手段,用于研究不易直接接觸或觀測的物理系統(tǒng),對驗證理論乃至預(yù)測物理現(xiàn)象具有重要意義。在許多工作中,研究者用含電光調(diào)制器的光纖環(huán)腔實現(xiàn)頻率合成維度,其中以間隔為自由光譜范圍(FSR)的模式作為格點(diǎn),用電光相位調(diào)制引入格點(diǎn)之間的相互作用,其調(diào)制頻率通常為FSR的整數(shù)倍。同時,薄膜鈮酸鋰芯片有高電光系數(shù)的天然條件,以及高穩(wěn)定性和強(qiáng)可擴(kuò)展性的優(yōu)勢,非常適合作為頻率合成維度的平臺。然而,光芯片上的腔長短,F(xiàn)SR大,導(dǎo)致以前的方法所需的調(diào)制頻率很高(10GHz或更高),對片上的調(diào)制效率以及配套的設(shè)備都提出非常高的要求。特別是存在長程耦合時,所需的頻率將進(jìn)一步翻倍,極大地阻礙了片上頻率合成維度的發(fā)展。

    在本工作中,研究組為了緩解這一困難,提出可以通過使用遠(yuǎn)小于一個腔模寬度的調(diào)制頻率(MHz量級),去選出一系列限制在腔模之內(nèi)的頻率作為格點(diǎn)形成合成維度。在合理的近似下,研究組實驗驗證了這種方法與傳統(tǒng)的實現(xiàn)方法得到的準(zhǔn)動量空間的能帶完全吻合。實驗結(jié)果表明,在存在8倍和9倍于頻率晶格常數(shù)的長程耦合時,該方法將實驗的頻率要求降低了5個數(shù)量級以上。


    實驗示意圖及能帶結(jié)果圖。上方表示準(zhǔn)動量空間能帶測量實驗示意圖;插圖表示模擬中鏈狀結(jié)構(gòu)的格點(diǎn)分布,所有的格點(diǎn)都被限制在一個共振峰內(nèi);下方左圖表示包含長程耦合的管狀結(jié)構(gòu)示意圖;右圖表示實驗測得的包含兩種耦合長度的模型的能帶圖,其中r為兩種耦合的長度比,Φ表示光學(xué)規(guī)范勢。

    本工作在極大地緩解高頻對片上合成維度帶來的困難的同時,也保持了傳統(tǒng)實現(xiàn)方法的拓展性,能夠推廣應(yīng)用至更高維的模型中,在薄膜鈮酸鋰光芯片上實現(xiàn)高維和復(fù)雜的頻率合成維度。審稿人高度評價該成果“opens a new avenue within the area of studying synthetic dimensions on photonic chips(為研究光芯片上的合成維度開辟了一條新途徑)”。

    中國科學(xué)院量子信息重點(diǎn)實驗室博士生汪兆安、曾曉東、特任副研究員王軼韜為論文的共同第一作者。該工作得到了合肥國家實驗室、國家自然科學(xué)基金委、中國科學(xué)院、安徽省和中國博士后基金的資助。

    論文鏈接:https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.133.233805

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