超黑納米技術(shù)的替代和超越

與傳統(tǒng)黑色消光工藝，包括陽(yáng)極氧化、噴涂涂料、電泳電鍍、化學(xué)發(fā)黑、光學(xué)減反AR等相比較，超黑納米鍍膜在各方面都有較大優(yōu)勢(shì)，實(shí)現(xiàn)了替代、突破和全面超越。

總半球反射率對(duì)比：

超黑納米鍍膜：有更低的反射率，低至1%以下，特別在紅外波段優(yōu)勢(shì)明顯。

傳統(tǒng)工藝：反射率很難做到5%以下，無(wú)超黑效果，特別在紅外波段效果更差。

薄膜材料特性對(duì)比：

超黑納米鍍膜：純無(wú)機(jī)材料，可在各種高低溫環(huán)境下使用，無(wú)任何揮發(fā)物釋放，可以超親水，也可以超疏水。

噴涂油漆電泳等傳統(tǒng)工藝：含大量有機(jī)物，容易釋放各種雜質(zhì)氣體，在特定高低溫下會(huì)變質(zhì)失效掉渣，且無(wú)疏水能力。

制備環(huán)境、成膜特點(diǎn)對(duì)比：

超黑納米鍍膜：高真空、高能量分子團(tuán)沉積，附著力好，厚度1-6微米，精度高，密度小重量輕，在各種形狀工件上都均勻一致，也沒有邊沿和尖端堆積，而且，在幾乎任何素材上都有良好的結(jié)合力，和一致的光學(xué)吸收特性。 噴涂、氧化或電泳等傳統(tǒng)工藝：大氣環(huán)境或液體環(huán)境下低能量大顆粒堆積，20-60微米，密度高、質(zhì)量大，且精度差、均勻性差，邊沿堆積嚴(yán)重，結(jié)合力差，易脫落或掉渣，含有機(jī)揮發(fā)物，而且很難在玻璃陶瓷及柔性薄膜上制備，在不銹鋼、鈦合金、殷鋼等材料上也附著力差，且反射率高，無(wú)法實(shí)現(xiàn)超黑效果。

與光學(xué)減反AR鍍膜的對(duì)比：

目前市面上蘋果華為等各大手機(jī)廠家的攝像頭中使用了AR黑膜，它是依靠多層光學(xué)薄膜的膜厚控制來(lái)實(shí)現(xiàn)反射光抵消，其膜厚均勻性控制難度大，導(dǎo)致表面容易出現(xiàn)干涉顏色，發(fā)紅發(fā)藍(lán)發(fā)黃發(fā)彩外觀不佳，特別是異形三維工件上基本無(wú)法使用。而且AR鍍膜在紅外波段吸收率非常低。 相反，超黑納米鍍膜工藝是依靠材料本身的優(yōu)異吸光性能來(lái)達(dá)到無(wú)反射效果，超黑外觀均勻一致，無(wú)任何干涉發(fā)彩，而且在紅外波段也擁有一樣的優(yōu)異性能。

超黑納米技術(shù)的應(yīng)用

超黑納米鍍膜技術(shù)相比傳統(tǒng)黑色工藝有巨大的優(yōu)勢(shì)，超黑技術(shù)的成熟和批量應(yīng)用一定會(huì)在多領(lǐng)域逐漸淘汰傳統(tǒng)黑色工藝的使用，必將給產(chǎn)品帶來(lái)更好的品質(zhì)，必將提高用戶的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。目前，超黑納米鍍膜已經(jīng)在鏡頭與成像、精密光學(xué)儀器、醫(yī)療器械、機(jī)器視覺、光電光熱、顯示、航天與軍事、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域開始了批量應(yīng)用。

航天衛(wèi)星與軍事

航天衛(wèi)星與軍事領(lǐng)域?qū)�可見光隱身、對(duì)微弱光線的探測(cè)觀察、高精度成像、對(duì)紅外光的利用，都有非常高的要求，特別在太空的真空及各種惡劣環(huán)境下，對(duì)成像、探測(cè)、傳感等都提出了極高要求。目前，在世界范圍內(nèi)只有超黑納米鍍膜工藝能夠有效滿足此類要求，而這也正是一個(gè)典型的卡脖子技術(shù)，目前深圳市精石納米技術(shù)有限公司已經(jīng)完全解決了這一難題。